全套電子自動(dòng)化流量控制（AEFC，Automated Electronic Flow Control） 
網(wǎng)絡(luò)化數(shù)據(jù)通訊及遠(yuǎn)程控制系統(tǒng) （LAN communication） 
*檢測(cè)器設(shè)計(jì) （Advanced detector design） 
全部漢化的鍵盤(pán)和軟件操作界面 （Chinese version of keypad and software）
*的電源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的環(huán)境測(cè)試（高溫高濕） （Strict environment test for QA）
精密的程序升溫爐膛溫度控制 (Precise programmable oven temperature control)
獨(dú)立加熱小柱箱 （Separated columns oven)
*的分析結(jié)果重復(fù)精度 (High reproducibility of analysis results) 
強(qiáng)大的自檢及報(bào)錯(cuò)功能 (Strong function of self-diagnostic)
可實(shí)現(xiàn)序列自動(dòng)運(yùn)行 (Sequence Run Available)
各種閥配置滿足氣體分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微氣路切割技術(shù)實(shí)現(xiàn)多位色譜及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)

柱溫箱

爐膛尺寸:28×30×18 cm
操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃
溫度設(shè)定精度：1℃
程序升溫zui高階數(shù):7階
zui高程序升溫速度: 120℃/min
zui長(zhǎng)一次方法運(yùn)行時(shí)間：999.99min
可運(yùn)行柱流失補(bǔ)償（雙通道）

進(jìn)樣口

雙通道進(jìn)樣口
進(jìn)樣口類(lèi)型可選：
填充柱進(jìn)樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細(xì)管柱）
毛細(xì)管柱分流/不分流進(jìn)樣口）
分流/不分流毛細(xì)管柱進(jìn)樣口
高精度電子壓力/流量控制
zui高使用溫度400°C
柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi
柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi
總流量設(shè)定范圍：
0 —1000 mL /min（氦氣）
0 —200mL/min（氮?dú)猓?br>流量設(shè)定精度：0.1 mL /min
zui大分流比：1：1000

氫火焰離子化檢測(cè)器（FID）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450°C
zui小檢出限：<2.5皮克碳/秒
動(dòng)態(tài)線性范圍：107（+10%）
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ

熱導(dǎo)池檢測(cè)器（TCD）

高精度電子流量/壓力控制、
適配于填充柱和毛細(xì)管柱、
zui高使用溫度300℃、
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100hz、
動(dòng)態(tài)線性范圍:105(±10%)、
zui小檢出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦氣）

電子捕獲檢測(cè)器（ECD）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度400 °C
隱性陽(yáng)極（帶吹掃）
檢測(cè)器補(bǔ)償氣類(lèi)型：5%甲烷/氬氣或者氮?dú)?br>數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
動(dòng)態(tài)線性范圍：>5X105
zui小檢出限：<0.01mCi  63Ni

氮磷檢測(cè)器（NPD）

高精度電子流量/壓力控制
適配與填充柱和毛細(xì)管柱
zui高使用溫度450 °C
zui小檢出限：<3皮克 碳/秒
動(dòng)態(tài)線性范圍：105N，105P
數(shù)據(jù)采集頻率：zui高100HZ
zui小檢測(cè)限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
選擇性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc

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